Intel pričel z distribucijo pomnilniških izdelkov NOR Flash

Intel je sporočil, da je pričel s prvim količinskim razpošiljanjem pomnilniških izdelkov NOR Flash, izdelanih v 65-nanometrskem tehnološkem procesu. Novi izdelki temeljijo na Intelovi arhitekturi StrataFlash Cellular Memory (M18) ter so združljivi z razširjenimi Intelovimi 90-nanometrskimi pomnilniškimi čipi, kar bo omogočalo preprosto migracijo originalnim proizvajalcem mobilnih telefonov.

Novi pomnilniški izdelki Intela, izdelani v 65-nanometrskem tehnološkem procesu, bodo omogočali hitro branje podatkov pri hitrostih do 133 MHz in izboljšano hitrost zapisovanja podatkov do 1 MB/sekundo, kar bo fotoaparatom z ločljivostjo 4 milijone točk in MPEG-4 video zapisom omogočalo hitrejši odzivni čas in povečane zmožnosti shranjevanja podatkov. Hitrost zapisovanja podatkov novih izdelkov, izdelanih v 65-nanometrskem tehnološkem procesu, je dvakrat boljša od Intelovih predhodnih izdelkov. Izdelki bodo omogočali tudi daljši čas delovanja baterije, manjšo porabo energije, delovanje pri 1,8 volta in funkcijo globokega mirovanja. Intel bo nadaljeval sodelovanje z različnimi ponudniki prenosnih telefonov z namenom omogočiti hitro prilagoditev na novo družino Intelovih izdelkov.

Intel je še sporočil, da s podjetjem Micron Technology napredujeta pri razvoju skupnega podjetja IM Flash Technologies, ki bo izdelovalo pomnilniške kartice NAND flash memory. Od ustanovitve podjetja IM Flash januarja letos sta podjetji odprli tri proizvodne enote s tehnologijo izdelave 300 mm, v Manassasu, Virginiji in Lehiju. Z množično proizvodnjo novih izdelkov, vključno s pomnilniškimi karticami NAND flash memory, pa bo skupno podjetje začelo prihodnje leto. Podjetji sta s proizvodnjo prvih primerkov naprav s čipi NAND flash z zmogljivostjo 4 gigabitov, izdelanih v 50-nanometrskem tehnološkem procesu, pričeli julija letos. Intel in Micron nameravata oblikovati novo skupno podjetje tudi v Singapurju in tam odpreti četrto proizvodno enoto, ki naj bi pričela obratovati v drugi polovici leta 2008. Na začetku obratovanja naj bi enota za proizvodnjo uporabljala 50-nanometrski tehnološki proces na 300 mm rezinah.