IBM predstavil najtanjši mikročip

IBM-ovi znanstveniki so na konferenci o mikrolitografiji v San Joseju predstavili metodo za izboljšanje procesa za izdelovanje manjših čipnih vezij. Z globoko ultravijolično optično litografijo, ki se uporablja za tiskanje vezij na čipe, je znanstvenikom uspelo narisati črte po siliciju, ki so med seboj oddaljene le 29,9 nanometrov (nanometer je miljoninka metra, kar je kar tritisočkrat tanjše od človeškega lasu). Razdalja med črtami je tako za tretjino manjša od tiste, ki se trenutno izrisuje v masovni proizvodnji integriranih vezij in je hkrati pod mejo 32 nanometrov, ki jo še dopušča risati optična litografija. IBM-ov dosežek lahko v prihodnosti pomembno prispeva k zmanjševanju stroškov izdelave integriranih vezij.

Dr. Robert Allen, direktor oddelka za litografske materiale v IBM-ovem laboratoriju Almden Research Center, je ob revolucionarnem dosežku dejal: “Naš namen je razvijati optično litografijo do najvišje možne ravni, saj tako izdelovalcem integriranih vezij še dolgo ne bo treba iskati dražjih alternativ izdelave. Zdaj imajo izdelovalci vsaj sedem let časa, preden bo nujna radikalna sprememba v tehnologiji izdelave čipov.”