Intel načrtuje reorganizacijo tovarne v Novi Mehiki

Intelova tovarna Fab 11X pred prenovo.

Intel je sporočil, da namerava v svojo tovarno Fab 11X v mestu Rio Rancho v Novi Mehiki investirati med 1 in 1,5 milijarde USD za reorganizacijo proizvodnje, po kateri bo v tovarni mogoča proizvodnja z Intelovim revolucionarnim 45-nanometrskim proizvodnim postopkom. Fab 11X bo tako že četrta Intelova tovarna, ki bo uporabljala omenjeni postopek, s proizvodnjo po novem postopku pa bo po načrtih začela v drugi polovici prihodnjega leta.

Intel je prvo podjetje, ki je naredilo enega največjih napredkov v temeljni zasnovi tranzistorja, s tem da namerava v svojem 45-nanometrskem proizvodnem postopku uporabiti inovativno kombinacijo novih materialov, ki znatno zmanjšajo izgubo elektrike iz tranzistorjev in povečajo njihovo zmogljivost. Podjetje bo v letošnjem letu pričelo s proizvodnjo izdelkov, narejenih s proizvodnim procesom, v katerem bo uporabilo nov material, imenovan “high-k”, za dielektrik tranzistorjevih vrat in novo kombinacijo kovinskih materialov za elektrodo tranzistorjevih vrat.

Paul Otellini, predsednik in izvršni direktor podjetja Intel, je dejal: “Naš nov 45-nanometrski proces predstavlja enega najpomembnejših proizvodnih napredkov v desetletjih in verjamemo, da nam bo njegova namestitev v tovarno v Novi Mehiki pomagala pri proizvodnji najboljših možnih izdelkov za naše uporabnike.”

S prvimi izdelki, narejenimi v 45-nanometrskem proizvodnem postopku, se bo lahko pohvalila razvojna tovarna D1D v Oregonu, Intel pa trenutno gradi še dve tovarni, ki bosta uporabljali isti proizvodni postopek. 3 milijarde USD vredna investicija Fab 32 v mestu Chandler v Arizoni bo s proizvodnjo začela konec letošnjega leta, tovarna Fab 28 v mestu Kiryat Gat v Izraelu, ki je vredna 3,5 milijarde USD, pa v prvi polovici prihodnjega leta.